CAS:7783-54-2
分子式:NF3
分子量:71

中文名稱:三氟化氮

英文名稱:Nitrogen trifluoride

性質描述:無色、無臭、性質穩定的液化氣體，不溶于水和堿，化學上較惰性，但赤熱時與金屬、非金屬作用，與油和脂肪發生反應，與氫氣激烈作用。高純三氟化氮幾乎沒有氣味,它是一種熱力學穩定的氧化劑,大約在350℃左右可分解成為二氟化氮和氟氣,故其反應性質類似于氟。三氟化氮用作氧化劑時,在發生反應的同時,可作為二氟化氮游離基的供給源。

生產工藝:目前三氟化氮工業化生產主要有兩條路線,一是合成法。將氟化氫銨在鎳制反應器中加熱,氟氣、氮氣和氨通過分布器進入反應器直接氟化反應。二是電解法。在一定溫度下,電解熔融的氟化氫銨,電解過程中陽極產生三氟化氮,陰極產生氫氣。我國三氟化氮生產廠家的生產方法為上述兩種方法。

用途:三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。

三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，

三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。

應用:IC方面。由于作為半導體工業中氣體清洗劑的全氟烴(PFC)對環境有害,近年來有逐漸被三氟化氮(NF3)取代之勢。使用NF3作為化學蒸氣沉積(CVD)箱清洗劑,與全氟烴相比,可減少污染物排放量約90%,且可顯著提高清洗速度,從而可提高清洗設備能力約30%。
LCD方面。NF3還可用作蝕刻劑,也用于液晶顯示器(LCD)的加工。太陽能電池：NF3作為蝕刻和清洗氣體也在太陽能電池制造行業廣泛應用。