CAS： 1445-79-0
分子式： C3H9Ga
分子量： 114.83
 
中文名稱： 三甲基鎵
 
英文名稱： Trimethyl gallium

性質描述：無色透明有毒液體。在空氣中易氧化，在室溫自燃，燃燒時發出金屬氧化物白煙。高溫時自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族飽和烴和甲苯、二甲苯等芳香族烴中以任何比例相溶。與水激烈反應生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X，并放出甲烷氣。

生產工藝：在充滿氬氣等惰性氣的合成釜反應器中，一次性地投入高純鎵鎂合金和醚類溶劑如二甲醚、乙醚、四氫呋喃或甲基四氫呋喃等溶劑。在反應釜設備緩慢攪拌的前提條件下逐漸滴入添加鹵代烷原料如溴甲烷或碘甲烷，同時嚴格控制鹵代烷的滴入添加速度及惰性溶劑的回流速度。待鹵代烷原料添加完成并且合成反應完成后，將醚類輔助溶劑進行蒸發回收，進而使用減壓蒸餾等分離方法得到三甲基鎵與醚類溶劑的化學配合物，最后將所獲得的配合產物解配獲得三甲基鎵的制成品。

制備：由碘化甲基鎂與三氯化鎵反應生成三甲基鎵醚絡合物，絡合物解離生成三甲基鎵。將粗制三甲基鎵醚絡合物蒸餾、分離、精餾、提純即可。或用三甲基鋁與三氯化鎵反應可生成三甲基鎵和(CH3）2A1C12.經蒸餾、加ＫＦ，再用物化方法提純可得99.999%產品。

用途：三甲基鎵可用于金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)，制備GaAs、AsGaAl等半導體化合物等，是制造發光二極管等電子元件的鎵源，也用于太陽能電池的制造。

應用：三甲基鎵（Ga(CH3)3，TMG）是MOCVD工藝技術生產光電材料如氮化鎵等的關鍵MO源原料，為MO源化合物中應用最廣泛的金屬有機化合物。MO源，即金屬有機化合物，是光電半導體材料行業等領域的重要金屬來源，是MOCVD工藝（即金屬有機化學氣相沉積工藝）等工藝技術生產制備合成新型半導體光電化合物材料的基礎源材料。