【標題】苯并三氮唑和5-羧基苯并三氮唑對銅緩蝕作用的光電化學比較

【作者】徐群杰[1] 陸柱[2] 等

【機構】[1]上海電力學院電化學研究室，國家電力公司熱力設備腐蝕與防護重點實驗室，上海200090 [2]華東理工大學防腐蝕中心

【摘要】采用光電化學方法和交流阻方法對不同濃度的BTA（苯并三氮唑）和5CBTA（5－羧基苯并三氮唑）在硼砂緩沖溶液（pH9.2)中對銅電極的緩蝕性能作了比較研究，研究發現兩者對銅的緩蝕作用機理不同，一定濃度的BTA能使電極表面Cu2O膜的結構改變，在電位正向掃描過程中銅電極光響應由p型轉化為n型，并可依此判斷緩蝕劑的緩蝕性能，n型光響應越大，緩蝕劑的緩蝕性能越好，而5CBTA能使電極表面的Cu2O膜增多，在電位負向掃描過程中陰極光電流密度明顯增大，并可據此判斷緩蝕劑的緩蝕性能，陰極光電流密度愈大，緩蝕效果越好，同時這兩種緩蝕劑均可用φv和某一較負電位下的陰極光電流密度Jph的大小來判斷緩蝕劑的緩蝕性能，φv的Jph越負，緩蝕性能越好，交流阻抗方法的結果和光電化學的結果相一致。

【關鍵詞】苯并三氮唑 5-羧基苯并三氮唑 銅電極 光電化學 交流阻抗 緩蝕劑

【論文】苯并三氮唑和5-羧基苯并三氮唑對銅緩蝕作用的光電化學比較.pdf