【標題】二巰基噻二唑自組裝對銅緩蝕行為研究

【作者】童耀斌 羅紅群 李念兵

【單位】西南大學化學化工學院,重慶400715

【摘要】本文采用電化學方法探討了二巰基噻二唑（DMTD）自組裝膜在3％NaCI溶液中對銅的緩蝕作用。實驗表明二巰基噻二唑已經成功地組裝到銅的表面，并具有良好的緩蝕作用。當二巰基噻二唑的濃度濃度均為1×10-2mol／L。組裝時間為25h時的腐蝕電流最小，緩蝕效率最好。

【關鍵詞】二巰基噻二唑 銅電極 緩蝕 自組裝膜

【論文】二巰基噻二唑自組裝對銅緩蝕行為研究.pdf